Oud-ASML'er helpt China aan cruciale EUV-lichtbron

In dit artikel:

China heeft vooruitgang geboekt bij de ontwikkeling van een eigen EUV-lichtbron, een essentieel onderdeel van machines waarmee de modernste chips worden gemaakt. Het onderzoeksteam staat onder leiding van Lin Nan, een voormalig ASML-wetenschapper die in Nederland aan lichtbronnen voor meetapparatuur werkte. De ontwikkeling past in China's streven om minder afhankelijk te worden van westerse chiptechnologie.

De Chinese onderzoekers ontwikkelden vorig jaar een experimentele lichtbron met een omzettingsefficiëntie van 3,42 procent. Het systeem produceert naar schatting 100 tot 150 watt aan EUV-licht. Dat is een sterk resultaat voor een onderzoeksopstelling, maar commerciële EUV-machines van ASML leveren ongeveer 600 watt. ASML werkt bovendien aan systemen met een vermogen van 1.000 watt en verwacht dit jaar ongeveer zestig EUV-machines te leveren.

Volgens Reuters beschikt China inmiddels over een prototype dat EUV-licht kan opwekken, maar kan de machine nog geen bruikbare chips produceren. Daarvoor zijn ook uiterst nauwkeurige spiegels, bewegingssystemen en gespecialiseerde software nodig. Vooral de optica, die ASML samen met het Duitse Zeiss ontwikkelt, blijft een grote technische hindernis.

Chinese onderzoekers mikken op de eerste werkende chips in 2028, terwijl deskundigen 2030 realistischer vinden. ASML heeft voorlopig nog een aanzienlijke technologische voorsprong.